台积电、三星等全球抢先晶圆代工厂为满意AI加快器需求，正在加快导入高数值孔径EUV光刻机，3nm及以下先进制程的扩产确定性进一步增强。

  近来，光刻机巨子ASML宣告上调全年营收指引，主因AI芯片制作相关的先进光刻设备需求持续增长。台积电（、三星等全球抢先晶圆代工厂为满意AI加快器需求，正在加快导入高数值孔径EUV光刻机，3nm及以下先进制程的扩产确定性进一步增强。

  A股方面，北方华创（002371.SZ）根本的产品包括刻蚀设备、薄膜设备、整理洗刷设备、热处理设备等，掩盖半导体制作的多个关键环节。

  中微公司（688012.SH）在先进封装范畴（包括高宽带存储器HBM工艺）全面布局，包括刻蚀、CVD、PVD、晶圆量检测设备等，且现已发布CCP刻蚀及TSV深硅通孔设备。回来搜狐，检查更加多