可划分为紫外(UV)、深紫外(DUV)和极紫外(EUV)三大类，别离对应不同纳米制程芯片的制作需求。

  头豹研究院指出，EUV的光源波长为13.5nm，能够制作7nm及以下制程的芯片；最先进DUV的光源波长为193nm，较长的波长使DUV没办法完成更高的分辨率，因而只能用来制作7nm及以上制程的芯片。

  依据华创证券研报，光刻机2024年、佳能、尼康市占率别离为61.2%、34.1%、4.7%。佳能与尼康聚集KrF与i-line等老练机型，而在ArFi浸没式与EUV范畴高度独占。