中新网杭州4月10日电(鲍梦妮)4月10日，浙江大学极点光学技能与仪器全国重点实验室在杭州举办效果发布会，宣告成功研制万通道3D纳米激光直写光刻机，为超分辩光刻、光子芯片制作、高端掩模版加工等范畴供给关键技能支撑。

  据悉，双光子激光直写技能因具有高分辩率、低热效应、无掩模和真三维加工能力，是微纳加工范畴的前沿方向，大范围的应用于芯片制作、光存储、微流控和精密传感等范畴。但传统单通道激光直写在加工速度上存在瓶颈，难以满意高精度、大面积制作的产业化需求。

  对此，研制团队选用双光子激光直写技能，提出数字微镜协同微透镜阵列的光场调控计划，可在体系中生成1万多个可独立操控的激光焦点。每个焦点能量可完成169阶以上的精密调理，以此来完成多通道独立操控。

  浙江大学极点光学技能与仪器全国重点实验室副主任匡翠方将此打破比喻为“一起用1万支笔写1万个不同的字”。“怎么‘写’得精密且均匀是难点地点。”匡翠方介绍，现在该激光直写光刻机完成2.39×10体素/秒的超高打印速率，加工速度和精度均处于世界领先水平。

  此外，研制团队提出自适应匀化算法、并行条带扫描、并行灰度体曝光等加工战略。根据上述立异，该激光直写光刻机的加工精度可达亚30纳米，加工速率可达42.7平方毫米/分钟，最大刻写尺度掩盖12英寸硅片，为大面积微纳结构的高通量、高精度制作供给了新途径。(完)

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